Toshiba y NuFlare galardonados con el 59.o Okochi Memorial Grand Production Prize (Gran Premio Memorial de Producción Okochi)

13/02/2013 - 12:51 por Business Wire

Toshiba y NuFlare galardonados con el 59.o Okochi Memorial Grand Production Prize (Gran Premio Memorial de Producción Okochi)--Por el Desarrollo y Aplicación de Escritores de Máscaras de Integración a Gran Escala (Large Scale Integration, LSI)--.

Toshiba Corporation (Toshiba) (TOKYO:6502) yNuFlare Technology, Inc. (NFT) (JASDAQ:6256) han sido galardonados con el 59.º Okochi Memorial Grand Production Prize por el desarrollo conjunto y la aplicación práctica de escritores de máscara de haz de electrones (electron beam, EB). La ceremonia de entrega de premios tendrá lugar en Tokio el 22 de marzo.

Los circuitos LSI se fabrican mediante el uso de herramientas de litografía para proyectar y reducir los patrones de circuitos principales a obleas. Los patrones de circuitos principales primero son escritos en máscaras por los escritores de máscara de haz de electrones. Anteriormente, la mayoría de los escritores de máscara de haz de electrones utilizaban haces puntuales para escribir los patrones, y éstos tuvieron que ser reducidos con la escala de LSI. Esto aumentó el tiempo de escritura para las máscaras y se convirtió en el principal desafío en la mejora de la productividad en la fabricación de máscaras.

Toshiba y NFT desarrollaron en forma conjunta un escritor de máscara de haz de electrones práctico con mayor exactitud de escritura y productividad que utiliza el método de máscara de escritura de haz de forma variable (Variable Shaped Beam, VSB), donde los haces de electrones se forman en las formas deseadas para llenar los patrones.

Las empresas desarrollaron una novedosa fórmula y sistema de cálculo que logra una corrección del efecto de proximidad de manera más rápida y precisa, el fenómeno por el cual los electrones dispersados ​​desde el sustrato de máscara cambian la exposición al haz y degradan la precisión del patrón de máscara. La tecnología anterior requería unos días de cálculos para obtener el error de cálculo objetivo de menos de 0,5 %. La nueva fórmula reduce el tiempo de cálculo a menos de 1 hora, lo que permite que se coordinen los cálculos con la escritura del patrón (exploración de haz y movimientos de la etapa de herramientas) en tiempo real.

El desarrollo y la aplicación de una fuente de electrones de alta luminosidad acortan el tiempo de escritura de máscara. Esto se logró mediante la mejora del material de la fuente de electrones y sus condiciones de operación para aumentar el brillo – la cantidad de electrones emitidos en un momento determinado. Esto finalmente redujo el tiempo necesario para la exposición de los haces de electrones sobre la máscara en un 95 %, reduciendo significativamente el tiempo de escritura.

Las empresas continuarán promoviendo la tecnología innovadora para satisfacer la demanda creciente de escritores de máscara con mayor precisión y productividad.

Acerca de Toshiba

Toshiba es un fabricante diversificado, proveedor de soluciones y comercializador líder en el mundo de productos y sistemas electrónicos, y eléctricos de avanzada. El Grupo Toshiba aporta innovación e imaginación a una amplia gama de negocios: productos digitales, incluidos televisores LCD, computadoras portátiles, soluciones minoristas e impresoras multifunción (Multi-function printer, MFP); dispositivos electrónicos, como semiconductores, productos y materiales de almacenamiento; sistemas de infraestructura industrial y social, como sistemas de generación de energía, soluciones comunitarias inteligentes, sistemas médicos y escaleras mecánicas y elevadores; y electrodomésticos.

Toshiba fue fundada en 1875 y actualmente opera una red global de más de 550 compañías consolidadas, con 202.000 empleados en todo el mundo y ventas anuales que superan los 6,1 billones de yenes (74.000 millones USD). Visite el sitio web de Toshiba en www.toshiba.co.jp/index.htm

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